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坂井 徹; 肘井 敬吾*; 大久保 晋*; 太田 仁*; 中野 博生*; 宮下 精二*
Applied Magnetic Resonance, 46(9), p.997 - 1002, 2015/09
被引用回数:1 パーセンタイル:6.46(Physics, Atomic, Molecular & Chemical)S=1/2カゴメ格子反強磁性体について18スピン・クラスターの数値対角化により研究した。ジャロシンスキー・守谷相互作用がある場合に起こり得るESRシングレット・トリプレット遷移の強度に比例する行列要素を計算した。いくつかの角度に依存した選択則を示した。
亀谷 宏美*; 菊地 正博; 原 英之*; 古田 雅一*; 等々力 節子*; 小林 泰彦; 鵜飼 光子*; 下山 雄平
Applied Magnetic Resonance, 42(2), p.153 - 159, 2012/03
被引用回数:5 パーセンタイル:30.6(Physics, Atomic, Molecular & Chemical)EPR分光法を用いて線照射された黒コショウ中のフリーラジカルの緩和挙動を解析した。線照射によって典型的な2本線のピークが検出された。緩和時間(と)はパルスEPRで観察された。われわれはとが線照射線量レベルによって変化し、これらの値は線照射処理の線量に依存性を示すことを見いだした。具体的には、は30s(1kGy)から36s(100kGy)に増加し、は277ns(1kGy)から437ns(100kGy)に増加した。これはラジカル間の相互作用が化学結合の切断により減少したためであると考えている。われわれは、パルスEPR法でセルロースラジカルを含む線照射誘導ラジカルを初めて測定した。